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真空(kong)氢(qing)化(hua)炉![]()
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一(yi).简介(jie): 本(ben)炉是在(zai)真空状(zhuang)态、加热(re)和充(chong)入(ru)氢(qing)气(qi)条(tiao)件下(xia)使物(wu)料(liao)在反应器(qi)皿中发生氢化(hua)反应。 本设备(bei)包括反应(ying)罐、加热(re)系(xi)统(tong)、真空(kong)系统、进(jin)气系统(tong)、控(kong)制系(xi)统、安(an)全(quan)防(fang)护(hu)系统(tong)。 二(er).特(te)点(dian): 1.各个工(gong)艺(yi)参(can)数(shu)能在(zai)触摸(mo)屏(ping)上工况允(yun)许(xu)的范(fan)围内任(ren)意设定(ding)。 2.炉料可通(tong)过(guo)炉内(nei)的(de)叶片旋(xuan)出,还(hai)可以倾(qing)斜旋转倒(dao)出(chu)。 3.设(she)有(you)氢(qing)气(qi)综(zong)合报警装(zhuang)置(zhi),设备运(yun)行(xing)安全(quan)可靠。 4.本(ben)HDDR炉适合(he)小(xiao)批(pi)量的生产(chan)及研究(jiu)部门(men)实(shi)验(yan)室用(yong)。 三(san).参数: 1.最高使用(yong)温度(du): 1100℃ 2.最高(gao)真空度: ≤6.67X10-3Pa 3.最大允许工(gong)作压力: ≤0.1MPa 4.压(ya)升率: 2Pa/小(xiao)时 5.加热功率: 根(gen)据用(yong)户工(gong)艺(yi)要求(qiu)定(ding)制(zhi) 6.装料量(liang): 根(gen)据用户(hu)工(gong)艺(yi)要(yao)求定制
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